美国有软著吗—软著和专利哪一个更好

美国有软件著作权（软著）保护制度，至于软著和专利哪一个更好，这取决于具体的需求和情况。以下是对软著和专利的详细比较：

1. 保护范围：

软著：主要保护软件作品的源代码、结构、设计、界面等方面，针对软件的版权保护，保护范围相对较窄，仅限于计算机软件领域。

专利：保护技术创新方面，包括发明、实用新型、外观设计等，范围更广泛，可涵盖多个领域的技术创新。

2. 含金量与职称评定：

专利的含金量相对更高，在职称评定中通常能加更多分数，但软著也可作为加分项。发明专利在职称评定中加分最高，实用新型专利和软著加分基本相近。

3. 申请周期：

软著：申请周期较短，大致2-3个月，甚至可加急最快1天下证。

专利：申请时间较长，实用新型专利申请时间大致在6-12个月，发明专利的申请时间最长，大致需要2-4年。

4. 保护原则与法律依据：

软著：在软件创作完成后自动产生，自愿进行登记，保护依据为《著作权法》和《计算机软件保护条例》。

专利：必须向专利局提出申请才能获得保护，保护依据为《专利法》。

5. 申请通过率与维护费用：

软著：登记通过率极高，只有前期申请费用，没有后续维护费用。

专利：申请要求技术性高，要满足新颖性、创造性、实用性等要求，申请难度较高，通过率低。除前期申请费用外，每年需缴纳年费，过期不缴视为放弃专利权。

6. 适用对象与需求：

软著：适用于软件作品的保护，主要是对软件开发公司、个人开发者等进行保护。

专利：适用于技术创新的保护，主要是对于研发企业、科研机构、大学、个人发明者等进行保护。

软著和专利各有优劣，选择哪一个更好取决于具体的需求和情况。如果需要快速获得保护且主要关注软件版权，软著可能是一个更好的选择；如果希望获得更广泛的保护范围且关注技术创新，专利可能更适合。