软著补正率高吗_软著和专利有什么区别

软著的补正率一般较高，而软著和专利在多个方面存在显著区别。以下是具体的解释：

1. 法律依据不同：

软著：主要依据《著作权法》和《计算机软件保护条例》进行保护。

专利：主要依据《专利法》进行保护。

2. 保护原则与产生方式不同：

软著：在软件创作完成后自动产生，且是自愿进行软件著作权登记。

专利：必须向专利局提出申请才能获得保护。

3. 保护对象与范围不同：

软著：保护的是软件的表现形式，包括计算机程序和相关的文档，不保护思想。主要关注软件的功能、设计、实现方式以及文档资料等方面。

专利：保护的是产品、方法或者技术改进等领域的发明创造，涵盖范围更广。在申请时描述的是软件的设计构思，一旦获权后，他人只要采用了软件专利的设计构思或方案，就可能构成侵权。

4. 申请通过率与难度不同：

软著：登记通过率极高，申请条件相对简单，只需要提交软件著作权登记申请表、软件代码和软件文档等材料。

专利：申请要求技术性高，并且要满足新颖性、创造性、实用性等诸多要求，申请难度较高，通过率低。需要经过实质审查，提交专利申请书、技术交底书和证明文件等材料，审查过程漫长。

5. 费用与时间成本不同：

软著：申请费用较低，办理时间也很短，通常一个月内就能完成。

专利：不仅需要缴纳一定的费用，还要经过漫长的审查过程，通常需要一年以上。

6. 保护期限不同：

软著：保护期限较长，一般为50年（对著作财产权的保护期一般是作者有生之年加上之后的50年，机构申请是50年）。但需要注意，软著需要定期续费来维持其效力。

专利：保护期限相对较短，发明专利为20年，外观设计和实用新型为10年，均从申请日起计算。

软著和专利在法律依据、保护原则与产生方式、保护对象与范围、申请通过率与难度、费用与时间成本以及保护期限等方面都存在明显的区别。选择哪种保护方式应根据具体情况和需求进行权衡。